专利名称：一种PECVD镀膜机的电极组件专利类型：发明专利
发明人：林佳继,刘群,张武,朱太荣,庞爱锁,林依婷申请号：CN202011264211.8申请日：20200210公开号：CN112680721A公开日：20210420
摘要：本发明提供一种PECVD镀膜机的电极组件，包括用于镀膜操作的真空炉腔，所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位，硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位，硅片被通过平移机构装入镂空载板中，镂空载板包括多个，多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布，形成硅片载具，单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位，镂空部位位于镂空载板的中部，所述安装部位位于所述镂空载板的一侧，多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式，硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成，对于镀膜过程来说，从插片到镀膜的过程，都可以进行氛围控制，有利于调整镀膜环境，提升镀膜质量。
申请人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
地址：518118 广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
国籍：CN
代理机构：杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：董世博
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