专利名称：一种双波段红外成像光学系统专利类型：实用新型专利发明人：蹇毅,潘兆鑫,于洋申请号：CN201120201781.2申请日：20110615公开号：CN202177748U公开日：20120328
摘要：本专利公开了一种双波段红外成像光学系统，它主要用于红外焦平面成像系统。本专利提出一种四片式的光学系统，来自无穷远物方的光束依次通过第一透镜，第二透镜，第三透镜，第四透镜，杜瓦窗口，孔径光阑，在像面上成像。系统的孔径光阑与制冷红外探测器杜瓦冷光阑重合。该系统实现了中波红外(MWIR，3-5μm)和长波红外(LWIR，8-12μm)波段在同一个焦平面成像。本系统相对孔径为1∶3，焦距300毫米，视场为8°。本专利结构的主要特点在于：双波段工作，使用常见的红外材料，冷光阑效率100％，且结构简单，易于装配。
申请人：中国科学院上海技术物理研究所
地址：200083 上海市玉田路500号
国籍：CN
代理机构：上海新天专利代理有限公司
代理人：郭英
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容